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單面研磨機(jī)-藍(lán)寶石外延片、硅晶片、光學(xué)鏡片等加工設(shè)備
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產(chǎn)品名稱(chēng):
單面研磨機(jī)-藍(lán)寶石外延片、硅晶片、光學(xué)鏡片等加工設(shè)備
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NanoSurface-460L 主要加工磁性材料、藍(lán)寶石外延片、硅晶片、光學(xué)鏡片、小型LCD Backlight Mold及其它精密半導(dǎo)體零部件等材料。
主機(jī)配備了研磨盤(pán)修整裝置，五分鐘之內(nèi)可完成特殊復(fù)合材料的研磨盤(pán)或天然金屬研磨盤(pán)的平面修整，無(wú)需使用另外研磨盤(pán)修整環(huán)修整裝置，研磨盤(pán)修整重復(fù)精度小于0.0015mm。
精密研磨時(shí)對(duì)產(chǎn)品施加的壓力根據(jù)產(chǎn)品的特性而改
單面研磨機(jī)-藍(lán)寶石外延片、硅晶片、光學(xué)鏡片等加工設(shè)備的詳細(xì)介紹
- NanoSurface-460L主要加工磁性材料、藍(lán)寶石外延片、硅晶片、光學(xué)鏡片、小型LCD Backlight Mold及其它精密半導(dǎo)體零部件等材料。
- 主機(jī)配備了研磨盤(pán)修整裝置，五分鐘之內(nèi)可完成特殊復(fù)合材料的研磨盤(pán)或天然金屬研磨盤(pán)的平面修整，無(wú)需使用另外研磨盤(pán)修整環(huán)修整裝置，研磨盤(pán)修整重復(fù)精度小于0.0015mm。
- 精密研磨時(shí)對(duì)產(chǎn)品施加的壓力根據(jù)產(chǎn)品的特性而改變，同時(shí)可使用操作板的按鈕自動(dòng)加壓及減壓。
- 為了維持研磨盤(pán)的平面度，配備了研磨盤(pán)表面溫度冷卻裝置，為了去除研磨盤(pán)的回轉(zhuǎn)啟動(dòng)及停止時(shí)產(chǎn)品所受的荷載，采用了慢啟動(dòng)、慢停止裝置。
- 超精密研磨、拋光 時(shí)為了反復(fù)精度和生產(chǎn)性，采用了無(wú)噪音的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，采用了高強(qiáng)性鑄鐵機(jī)身及超精密主軸系統(tǒng)，吸收及緩沖了研磨、拋光時(shí)細(xì)微噪音或震動(dòng)，提高了產(chǎn)品精度及平面度。
- 根據(jù)研磨液自動(dòng)噴灑裝置可控制多重噴灑。
- 配件：1) 水冷卻軸 2) 研磨盤(pán) 3) 特殊卡具 4) 自動(dòng)噴灑裝置 5) 陶瓷修整環(huán) 6) 金剛石環(huán) 7) 研磨量測(cè)量系統(tǒng) 8) 電機(jī)系統(tǒng) 9) 真空清潔器
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Section |
NanoSurface-380L |
NanoSurface-460L |
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研磨盤(pán)尺寸 |
Ø380×140mm |
Ø460×160mm |
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修整環(huán)尺寸 |
Ø178×Ø140mm |
Ø220×Ø182mm |
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主軸電機(jī) |
1.5kw,220V,3P |
2.2kw, 220V,3P |
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研磨盤(pán)回轉(zhuǎn)數(shù) |
0~350rpm |
0~350rpm |
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研磨盤(pán)修整范圍 |
200mm |
250mm |
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研磨盤(pán)修整裝置 |
○ |
○ |
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研磨盤(pán)冷卻裝置 |
○ |
○ |
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設(shè)備尺寸（W×L×H） |
850×1,707×1,728 |
850×1,707×1,728 |
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設(shè)備重量 |
1,050 kg |
1,140 kg |
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電源 |
220V/380V, 3P, 50/60Hz |
220V/380V, 3P, 50/60Hz |
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