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開(kāi)放式單面研磨機(jī)-硅晶片、陶瓷、藍(lán)寶石、光學(xué)部件等加工設(shè)備
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開(kāi)放式單面研磨機(jī)-硅晶片、陶瓷、藍(lán)寶石、光學(xué)部件等加工設(shè)備
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NanoSurface-610L 是高精度平面加工設(shè)備，有著高強(qiáng)度機(jī)械構(gòu)造和穩(wěn)定的精度，主要適用于大型產(chǎn)品或大量小型產(chǎn)品的加工。
設(shè)備采用了自律式，易于維持研磨盤表面精度，在研磨過(guò)程中可隨意調(diào)節(jié)變速，研磨加工時(shí)間也根據(jù)計(jì)時(shí)器可隨意設(shè)定。并易于更換研磨盤而適用于多種工程。
研磨盤修整裝置與機(jī)身易于組裝，5分鐘之內(nèi)可完成特殊復(fù)合材質(zhì)的研磨盤或天然金屬質(zhì)研磨盤的平面度修整，
開(kāi)放式單面研磨機(jī)-硅晶片、陶瓷、藍(lán)寶石、光學(xué)部件等加工設(shè)備的詳細(xì)介紹
- NanoSurface-610L是高精度平面加工設(shè)備，有著高強(qiáng)度機(jī)械構(gòu)造和穩(wěn)定的精度，主要適用于大型產(chǎn)品或大量小型產(chǎn)品的加工。
- 設(shè)備采用了自律式，易于維持研磨盤表面精度，在研磨過(guò)程中可隨意調(diào)節(jié)變速，研磨加工時(shí)間也根據(jù)計(jì)時(shí)器可隨意設(shè)定。并易于更換研磨盤而適用于多種工程。
- 研磨盤修整裝置與機(jī)身易于組裝，5分鐘之內(nèi)可完成特殊復(fù)合材質(zhì)的研磨盤或天然金屬質(zhì)研磨盤的平面度修整，無(wú)需另外修整環(huán)(Condition Ring)的修整，可維持高精度的研磨盤平面度。
- 采用了自動(dòng)供給研磨液裝置，并研磨盤的修整不能超出修整范圍，使用調(diào)整環(huán)（Adjust ring）簡(jiǎn)便維持研磨盤的平面度而采用了開(kāi)放式形式。
- 適用范圍：Silicone Photo Mask、硅晶片、陶瓷工件、PZT、TRIME、電子陶瓷部件、藍(lán)寶石塊、藍(lán)寶石窗口、瓦斯表、光學(xué)部件、 光學(xué)鏡片、標(biāo)準(zhǔn)塊、LCD 背光模、Ferrite Core、CD Mold、濾光片、Auto-Mobile Parts、機(jī)械密封件等等。
- 配件：1) 研磨液噴灑系統(tǒng) 2) 自動(dòng)噴灑裝置 3) 表面修整裝置 4) 電機(jī)系統(tǒng) 5) 震動(dòng)系統(tǒng) 6) 研磨盤 7) 陶瓷修整環(huán) 8) 特殊裝卡裝置
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Section |
NanoSurface-610L |
NanoSurface-710L |
NanoSurface-910L |
NanoSurface-1000L |
NanoSurface-1200L |
NanoSurface-2000L |
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研磨盤尺寸 |
Ø610 |
Ø710 |
Ø910 |
Ø1000 |
Ø1200 |
Ø2000 |
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Ring ID Size |
Ø248 |
Ø280 |
Ø352 |
Ø403 |
Ø423 |
Ø850 |
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研磨盤回轉(zhuǎn)數(shù) |
0～80 |
0～80 |
0～60 |
0～60 |
0～50 |
0～40 |
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設(shè)備尺寸(mm) |
1,466×940×1,495 |
1,466×940×1,495 |
2,120×1,495×1,550 |
2,120× 1,495×1,550 |
2,420× 1,695×1,650 |
3,500×3,200×2,500 |
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設(shè)備重量 |
980 Kg |
1,130 Kg |
2,400 Kg |
2,750 Kg |
2,950 Kg |
18,000 Kg |
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電源 |
220V/380V, 3P, 50/60Hz |
220V/380V, 3P, 50/60Hz |
220V/380V, 3P, 50/60Hz |
220V/380V, 3P, 50/60Hz |
220V/380V, 3P, 50/60Hz |
220V/380V, 3P, 50/60Hz |
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